بررسی ساختاری سطوح سیلیکان ضمن حکاکی ناهمگن (سکینه حسین آبادی1، مرجان رجبی2 )

دوفصلنامه فیزیک اتمی و مولکولی

مقاله 2، دوره 8، شماره 31، اسفند 1396، صفحه 11-18

نوع مقاله: پژوهشی

چکیده

در این مقاله  ساختار سطحی سیلیکان متخلخل ضمن حکاکی ناهمگن مورد مطالعه قرار می گیرد. داده ها و تصاویر دو بعدی و سه بعدی حاصل از میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی  FESEM و میکروسکوپ نیروی اتمی AFM مورد تحلیل آماری و محاسباتی قرار می گیرند. تصاویر FESEM بیانگر ایجاد ساختارهای هرم گونه ضمن فرایند حکاکی است. محاسبات مبتنی بر تعیین زبری و تابع همبستگی نشان می دهند که سطح موثر و ابعاد هرم ها ضمن حکاکی افزایش می یابد. کمیت های اسکیونس و کورتوسیس غیر گاوسی بودن ساختار حاصل را نشان می دهند که مقدار ناهمگنی ساختار با افزایش زمان حکاکی بیشتر می شود. همچنین حلقه های کانتوری ساختار دلالت بر افزایش اندازه هرم ها با افزایش زمان حکاکی دارد.