تصحیح تصویر حاصل از پروفایلومترها از سطوحی با زبری نانومتری

نانومواد

مقاله 2، دوره 2، شماره 5، خرداد 1389، صفحه 12-19   

نوع مقاله: مقاله پژوهشی

نویسندگان

مجید سلامی^{* 1}؛ مریم زمانی²؛ سیدمهدی فاضلی³؛ غلامرضا جعفری¹

¹دانشگاه آزاد اسلامی، واحد علوم و تحقیقات تهران، مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما، تهران، ایران

²گروه فیزیک، دانشگاه شهید بهشتی، تهران

³گروه فیزیک، دانشگاه قم، قم

چکیده

در این مقاله نشان می­دهیم که فرآیندهای مارکوف نقشی اساسی در جاروب سطح زبر و مشخص کردن توپوگرافی آن سطح دارند. توپوگرافی سطح حاصل شده از یک پروفایلومتر مانند میکروسکوپ نیروی اتمی AFM (Atomic Force Microscope)، وابسته به برهمکنش سطح با سوزن پروب است. وقتی سایز سوزن پروب با تغییرات ارتفاع سطح قابل مقایسه باشد، تصویر سطح نسبت به سطح اصلی مقداری متفاوت خواهد داشت. اثر سوزن باعث بوجود آمدن یک تلاقی در تابع ساختار سطح می­شود. برای مقیاس­های کوچکتر از طول مارکوف – مقیاس طول مینیمم بر روی فرآیندی که مارکوف باشد- تابع تصادفی که سطح زبر را توصیف می­کند غیر مارکوفی است، درحالیکه برای مقیاس طول بزرگتر از طول مارکوف، سطح می­تواند توسط یک فرآیند مارکوف توصیف شود. سطوح زبر مصنوعی تولید شده با روش (Fractional Guassian Noise) FGN، به خوبی سطح زبر V₂O₅ حاصل شده توسط AFM، این نتایج را تایید می­کند.

کلیدواژه‌ها

فرآیند مارکوف؛ طول مارکوف؛ میکروسکوپ نیروی اتمی؛ سوزن پروب؛ سطح زبر

مراجع