تحلیل چند فراکتالی سطوح سیلیکان نانومتخلخل تحت خوردگی محلول KOH (حسین آبادی، سکینه*)

دوفصلنامه فیزیک اتمی و مولکولی

مقاله 5، دوره 8، شماره 31، اسفند 1396، صفحه 30-37

نوع مقاله: پژوهشی

چکیده

افت و خیزهای سطحی سیلیکان متخلخل ضمن فرایند خوردگی با محلول بازی KOH مبتنی بر رویکرد فراکتالی مورد بررسی قرار می گیرد.  تصاویر حاصل از میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی ظهور ساختارهای هرم گونه را نشان می دهد. داده های حاصل از میکروسکوپ نیروی اتمی ضمن تحلیل چند فراکتالی MFDFA نشان می دهند که سطوح سیلیکان قبل از حکاکی دارای ساختاری منظم و تک فراکتال با نمای هارست  هستند. افزایش زمان حکاکی منجر به بی نظمی ساختاری شده و سطوحی با خاصیت چند فراکتالی ایجاد می شوند که درجه بی نظمی و شدت چندفراکتالی با زمان افزایش می یابد. نتایج نشان می دهند علت افزایش شدت چندفراکتالی در ناهمگن بودن توزیع ساختارهای هرم گونه و  وجود همبستگی های متفاوت در ساختار است.