حذف وتعیین سرب (II) با استفاده از دیسک‌های نانو مغناطیسی اصلاح شده اکتادسیل سیلیکا با دی اکتیل فتالات با روش اسپکتروسکوپی جذب اتمی

شیمی کوانتومی و اسپکتروسکوپی

دوره 10، شماره 33، آذر 1399، صفحه 48-42   

نوع مقاله: مقاله پژوهشی

نویسندگان

علی مقیمی^{* 1}؛ میلاد آبنیکی²؛ مهناز قمی³

¹هیات علمی دانشگاه آزاد اسلامی واحد ورامین -پیشوا، دانشکده علوم پایه ، گروه شیمی

²دپارتمان شیمی دانشگاه آزاد اسلامی واحد ورامین- پیشوا

³دانشکده علوم پایه، گروه شیمی، دانشگاه آزاد اسلامی، واحد علوم پزشکی

چکیده

در این مطالعه فرآیندی سریع و آسان به منظور حذف و تعیین کمی از یون های سرب (II) با استفاده از دیسک‌های نانومغناطیسی اکتادسیل سیلیکا که توسط نانوذرات اکسید آهن همراه با دی اکتیل فتالات اصلاح شده و به صورت مغناطیسی درآمده است وبا روش اسپکتروسکوپی جذب اتمی انجام شده است. این فرایند با ایجاد یک کمپلکس در سطح دیسک ENVI-18 انجام شده است و برای استخراج گونه‌های جذب شده در سطح دیسک حداقل مقدار حلال های آلی استفاده شده است. شویش دیسک‌ها در این روش قابل توجه و کمی است. در این تحقیق اثرات یون مزاحم، pH، مقدار لیگاند، حلال شویشی مناسب و سرعت جریان نمونه نیز مورد مطالعه قرار گرفت. پس از انجام فاکتورهای بهینه‌سازی به منظور جذب، حجم حلال تا حدود 900 میلی لیتر بدست آمد. بیشترین ظرفیت جذبی برای جاذب مطالعه شده به منظور جذب یون‌های سرب (II) 370 میکروگرم بدست آمده است. حد تشخیص برای این روش با مقداری قابل قبول برای یون‌های سرب (II) بدست آمده است. این روش برای استخراج و بازیابی سرب (II) در نمونه‌های مختلف آبی استفاده شد.

کلیدواژه‌ها

پیش تغلیظ فلزات سنگین؛ استخراج؛ دیسک‌های نانو مغناطیسی؛ اثرات یون تداخلی

مراجع